[发明专利]一种空间任意弯曲光束产生器的结构与制备方法

摘要

本发明涉及特殊光场调控技术，具体涉及一种空间任意弯曲光束产生器的结构与制备方法。所述结构为金属矩形块、二氧化硅、金属、二氧化硅的四层结构，所述四层结构的基底层为二氧化硅，基底层上蒸镀金属膜，金属膜上有两条缝隙，金属膜上面蒸镀二氧化硅膜，二氧化硅膜上表面有非周期金属矩形块；本发明的结构通过甩负胶，曝光、显影、定影，垂直蒸镀金属，垂直蒸镀二氧化硅，除胶，甩正胶，再次曝光、显影、定影，再次垂直蒸镀金属和再次除胶制备得到。本发明制备结构能够形成空间任意弯曲光束，且本发明的方法避免了在金属表面刻凹槽，实验设备要求相对低，易于重复使用。

主权项

1.一种空间任意弯曲光束产生器的结构，其特征在于：所述结构为金属矩形块、二氧化硅、金属、二氧化硅的四层结构，所述四层结构的基底层为二氧化硅，基底层上蒸镀金属膜，金属膜上有两条缝隙，金属膜上面蒸镀二氧化硅膜，二氧化硅膜上表面有至少10个非周期金属矩形块，其中第一个非周期金属矩形块的宽度b 为130 nm，第二个至最后一个非周期金属矩形块的宽度L均为 200～400nm，所有非周期金属矩形块的高度H为40～120nm；二氧化硅膜的厚度d 为20～100nm。