[发明专利]量子点显示基板及其制造方法和量子点显示装置有效
| 申请号： | 201610538470.2 | 申请日： | 2016-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN105929591B | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 田允允;吕敬;林允植;崔贤植;杨泽洲 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 汪源;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种量子点显示基板及其制造方法和量子点显示装置。该量子点显示基板包括黑矩阵图形和量子点图形，所述量子点图形位于所述黑矩阵图形之间，所述量子点显示基板还包括：第一衬底基板和位于所述第一衬底基板一侧的第一光学层和第二光学层，所述第一光学层位于所述第二光学层的远离所述第一衬底基板的一侧；所述第一光学层，用于对入射光进行准直处理形成准直光，并将所述准直光输出至第二光学层；所述第二光学层，用于调整准直光的出光方向形成出射光，并使出射光照射至所述黑矩阵图形上。本发明避免了出射光照射至量子点图形上，从而使得量子点显示装置能够进行真正的暗态显示。 | ||
| 搜索关键词： | 量子 显示 及其 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种量子点显示基板，包括黑矩阵图形和量子点图形，所述量子点图形位于所述黑矩阵图形之间，其特征在于，所述量子点显示基板还包括：第一衬底基板和位于所述第一衬底基板一侧的第一光学层和第二光学层，所述第一光学层位于所述第二光学层的远离所述第一衬底基板的一侧；所述第一光学层，用于对入射光进行准直处理形成准直光，并将所述准直光输出至第二光学层；所述第二光学层，用于调整准直光的出光方向形成出射光，并使出射光照射至所述黑矩阵图形上。
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