[发明专利]测量设备及测量方法在审
| 申请号： | 201610540059.9 | 申请日： | 2016-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN106247958A | 公开（公告）日： | 2016-12-21 |
| 发明（设计）人： | 郭杨辰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 许静;刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种测量设备，包括：基座，设置于基座上的膜厚测量装置，用于在第一工作状态下工作以获得基板待测膜层的实际厚度值；设置于基座上的分光测量装置，用于在第二工作状态下工作以获得待测膜层的厚度当前测量值；用于控制所述膜厚测量装置和所述分光测量装置在所述第一工作状态和所述第二工作状态之间切换的控制装置。本发明还涉及一种测量方法。本发明的膜厚测量装置和分光测量装置集成为一体，以便更换待测膜层种类时测量的校正，可快速有效的对基板上的各种膜层进行测量。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 设备 测量方法 | ||
【主权项】：
一种测量设备，其特征在于，包括：基座；设置于基座上的膜厚测量装置，用于在第一工作状态下工作以获得基板待测膜层的实际厚度值；设置于基座上的分光测量装置，用于在第二工作状态下工作以获得待测膜层的厚度当前测量值；用于控制所述膜厚测量装置和所述分光测量装置在所述第一工作状态和所述第二工作状态之间切换的控制装置。
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