[发明专利]一种用于铜布线阻挡层钴的碱性抛光液及其制备方法有效
| 申请号： | 201610541674.1 | 申请日： | 2016-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN106118491B | 公开（公告）日： | 2018-06-12 |
| 发明（设计）人： | 王辰伟;高宝红;李祥州;刘玉岭;何彦刚 | 申请（专利权）人： | 河北工业大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/04 |
| 代理公司： | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人： | 李蕊 |
| 地址： | 300130 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种用于铜布线阻挡层钴的碱性抛光液及其制备方法，所述抛光液由下述组分组成，按重量百分比计 |
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| 搜索关键词： | 碱性抛光液 铜布线 阻挡层 制备 表面活性剂 弱碱性环境 重量百分比 多羟多胺 混合方式 对设备 非离子 硅溶胶 抛光液 无腐蚀 易清洗 螯合剂 水中 离子 脱离 | ||
【主权项】：
一种用于铜布线阻挡层钴的碱性抛光液，其特征在于：由下述组分组成，按重量百分比计![]()
所述碱性抛光液的pH值为10.5，其中，所述硅溶胶的粒径50nm—90nm,分散度在±5％之间。
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