[发明专利]一种铝熔体的真空净化装置及方法

摘要

本发明涉及有色金属冶炼领域，特别是一种铝熔体的真空室净化装置及方法，利用西维茨平方根定律，将铝熔体置于133Pa以下的真空状态下，将铝熔体的气体夹杂进行净化，该装置由真空泵、真空室、流入管、流出管、储液槽、隔板、驱动气孔、控制阀站组成，利用真空泵将真空室抽到133Pa以下，铝熔体在驱动气体的作用下通过流入管进入真空室，在真空状态下，铝熔体中的气体逸出，真空泵将其抽出，使铝熔体的气体含量控制在理想的范围内，大大减少铝铸锭产生缺陷的可能。

主权项

一种铝熔体的真空净化装置，其特征在于，包括真空泵、管道、真空室、第一驱动气孔、储液槽、流入管、第二驱动气孔、控制阀站、流出管和隔板：储液槽用隔板分成第一储液槽和第二储液槽；真空室为可升降结构，真空室上部通过管道与真空泵密封连接，下部与流入管和流出管固定密封连接，在流入管的管壁上均匀分布有若干个第一驱动气孔，并通过管道与控制阀站连通；第一储液槽底部设置有第二驱动气孔，并通过管道与控制阀站连通；流入管的中心与下方第一储液槽的第二驱动气孔对应；第二储液槽位于流出管下部；第一驱动气孔和第二驱动气孔分别连接驱动气体装置。