[发明专利]组合物和将厚环境阻挡涂层附接在CMC部件上的方法有效
| 申请号： | 201610548560.X | 申请日： | 2016-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN106699234B | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | G.H.柯比;N.E.安托利诺 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | B32B18/00 | 分类号： | B32B18/00;C04B41/89;F01D5/28 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 刘林华;周心志 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了在CMC基材(24)上的涂层系统(20)，以及其带式沉积到基材(24)上的方法。涂层系统(20)可以包括：CMC基材(24)的表面上的粘合涂层(26)；粘合涂层(26)上的第一稀土硅酸盐涂层(28a)；至少一个稀土硅酸盐层上的第一增强稀土硅酸盐基质的第一牺牲涂层(30a)；牺牲涂层上的第二稀土硅酸盐涂层(28b)；第二稀土硅酸盐涂层(28b)上的第二增强稀土硅酸盐基质的第二牺牲涂层(30b)；第二牺牲涂层(30b)上的第三稀土硅酸盐涂层(28c)；以及第三稀土硅酸盐涂层(28c)上的外层(32)。第一牺牲涂层(30a)和第二牺牲涂层(30b)独立地具有约4密耳至约40密耳的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 组合 环境 阻挡 涂层 cmc 部件 方法 | ||
【主权项】：
一种CMC基材(24)上的涂层系统(20)，所述涂层系统(20)包括：所述CMC基材(24)上的第一稀土硅酸盐涂层(28a)，其中所述第一稀土硅酸盐涂层(28a)包含至少一个稀土硅酸盐层；所述至少一个稀土硅酸盐层上的第一增强稀土硅酸盐基质的第一牺牲涂层(30a)，其中所述第一牺牲涂层(30a)具有约4密耳至约40密耳的厚度；所述牺牲涂层上的第二稀土硅酸盐涂层(28b)，其中所述第二稀土硅酸盐涂层(28b)包含至少一个稀土硅酸盐层；所述第二稀土硅酸盐涂层(28b)上的第二增强稀土硅酸盐基质的第二牺牲涂层(30b)，其中所述第二牺牲涂层(30b)具有约4密耳至约40密耳的厚度；以及所述第二牺牲涂层(30b)上的第三稀土硅酸盐涂层(28c)，其中所述第三稀土硅酸盐涂层(28c)包含至少一个稀土硅酸盐层；所述第三稀土硅酸盐涂层(28c)上的外层(32)。
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