[发明专利]一种高世代平板铜制程光阻剥离液有效

专利信息
申请号: 201610551574.7 申请日: 2016-07-14
公开(公告)号: CN106019863B 公开(公告)日: 2019-08-09
发明(设计)人: 邵勇;殷福华;栾成;陈林;朱龙;顾玲燕;赵文虎;李英 申请(专利权)人: 江阴江化微电子材料股份有限公司
主分类号: G03F7/42 分类号: G03F7/42
代理公司: 江阴义海知识产权代理事务所(普通合伙) 32247 代理人: 杜兴
地址: 214400 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种高世代平板铜制程光阻剥离液,按质量百分比计包括:5~25%的醇胺、5~30%的醇、0.01~3%的金属抗蚀剂、0.1~1%的有机酸和25~75%的有机溶剂。本发明高世代平板铜制程光阻剥离液组分简单,采用碱性较低的醇胺侵蚀光刻胶,并且向剥离液组分中添加有机酸作为助溶剂,提高有机溶剂体系对光刻胶的剥离和溶解能力,且通过加入抗蚀剂减少剥离液体系对铜和基板的侵蚀,处理后的铜阵列无光刻胶残留;剥离液体系具有低挥发形和低毒性,使用温度下损失小,组分稳定且水溶性好,便于清洗。
搜索关键词: 一种 世代 平板 铜制 程光阻 剥离
【主权项】:
1.一种高世代平板铜制程光阻剥离液,其特征在于,剥离液按质量百分比计包括:5~25%的醇胺、5~30%的醇、0.01~3%的金属抗蚀剂、0.1~1%的有机酸和25~75%的有机溶剂,醇胺为单乙醇胺、单异丙醇胺、2‑氨基‑2‑甲基‑1‑丙醇、2‑甲氨基乙醇和3‑氨基丙醇胺中的至少一种,金属抗蚀剂由咪唑啉季铵盐和糖醇类抗蚀剂组合而成,金属抗蚀剂中咪唑啉季铵盐的质量百分比为50~80%。
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