[发明专利]主动元件在审

专利信息
申请号: 201610553295.4 申请日: 2016-07-14
公开(公告)号: CN106057799A 公开(公告)日: 2016-10-26
发明(设计)人: 陈培铭 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;田景宜
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种主动元件,适于设置于基板上,其包括多晶硅半导体层、第一绝缘层、栅极、第二绝缘层、第一接触窗、氧化物半导体层、第一电极及一第二电极。多晶硅半导体层设置于基板上,具有第一掺杂区、通道区及第二掺杂区,通道区设置于第一掺杂区及第二掺杂区之间。第一绝缘层覆盖多晶硅半导体层及基板。栅极对应通道区设置于第一绝缘层上。第二绝缘层覆盖栅极及第一绝缘层,第一绝缘层及第二绝缘层具有一第一接触窗。氧化物半导体层对应栅极设置于第二绝缘层上。第一电极及一第二电极分别相对设置于氧化物半导体层上,氧化物半导体层电性连接第二电极,并经第一接触窗与第二掺杂区电性连接。
搜索关键词: 主动 元件
【主权项】:
一种主动元件,设置于一基板上,其特征在于,该主动元件包括:一多晶硅半导体层,设置于该基板上,其中该多晶硅半导体层具有一第一掺杂区、一通道区及一第二掺杂区,且该通道区设置于该第一掺杂区及该第二掺杂区之间;一第一绝缘层,覆盖该多晶硅半导体层及该基板;一栅极,对应该通道区设置于该第一绝缘层上;一第二绝缘层,覆盖该栅极及该第一绝缘层,其中该第一绝缘层及该第二绝缘层具有一第一接触窗;一氧化物半导体层,对应该栅极设置于该第二绝缘层上;以及一第一电极及一第二电极,分别相对设置于该氧化物半导体层上,其中该氧化物半导体层电性连接该第二电极,并经该第一接触窗与该第二掺杂区电性连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司,未经友达光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610553295.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top