[发明专利]一种装配尺寸链生成的方法及装置

摘要

本发明提供了一种装配尺寸链生成的方法及装置，其中，方法包括：获取一预先构建的三维装配体模型的尺寸及公差信息以及装配约束信息；根据尺寸及公差信息，获取尺寸及公差信息表，尺寸及公差信息表包括具有第一关联关系的尺寸及公差类型、尺寸及公差数据和尺寸及公差数据对应的两个第一关联几何特征的信息；根据装配约束信息，获取装配约束信息表，装配约束信息表包括具有第二关联关系的装配约束类型、装配约束数据和装配约束数据对应的两个第二关联几何特征的信息；根据尺寸及公差信息表和装配约束信息表，得到装配关系传递图；根据装配关系传递图，生成三维装配体模型的装配尺寸链。本发明提高了装配尺寸链生成的效率和成功率。

主权项

1.一种装配尺寸链生成的方法，其特征在于，包括：获取一预先构建的三维装配体模型的尺寸及公差信息以及装配约束信息；根据所述尺寸及公差信息，获取尺寸及公差信息表，其中，所述尺寸及公差信息表包括尺寸及公差类型、尺寸及公差数据和所述尺寸及公差数据对应的两个第一关联几何特征的信息，所述尺寸及公差类型、所述尺寸及公差数据和所述尺寸及公差数据对应的两个第一关联几何特征的信息具有第一关联关系；根据所述装配约束信息，获取装配约束信息表，其中，所述装配约束信息表包括装配约束类型、装配约束数据和装配约束数据对应的两个第二关联几何特征的信息，所述装配约束类型、所述装配约束数据和所述装配约束数据对应的两个第二关联几何特征的信息具有第二关联关系；根据所述尺寸及公差信息表和所述装配约束信息表，得到所述三维装配体模型的装配关系传递图；根据所述装配关系传递图，生成所述三维装配体模型的装配尺寸链；其中，在所述根据所述尺寸及公差信息，获取尺寸及公差信息表的步骤中，所述尺寸及公差数据包括尺寸值、公差值、上偏差值和下偏差值；所述两个第一关联几何特征包括第一基准几何特征和第一被约束几何特征；并且，所述第一基准几何特征和第一被约束几何特征均为派生特征时，所述尺寸及公差类型为互参考尺寸及公差类型；所述第一基准几何特征为派生特征，所述第一被约束几何特征为名义特征时，所述尺寸及公差类型为自参考尺寸及公差类型；在所述根据所述装配约束信息，获取装配约束信息表的步骤中，所述装配约束数据为所述两个第二关联几何特征之间的偏移量；所述两个第二关联几何特征包括第二基准几何特征和第二被约束几何特征；并且，当所述第二基准几何特征和第二被约束几何特征接触时，所述装配约束类型为固定配合约束类型；当所述第二基准几何特征和第二被约束几何特征未接触时，所述装配约束类型为漂移配合约束类型。