[发明专利]一种ODR结构的倒装发光二极管及制备方法、倒装高压LED在审

专利信息
申请号: 201610557381.2 申请日: 2016-07-15
公开(公告)号: CN106169531A 公开(公告)日: 2016-11-30
发明(设计)人: 周弘毅;张永;陈凯轩;李俊贤;刘英策;陈亮;魏振东;李小平;吴奇隆;蔡立鹤;邬新根;黄新茂 申请(专利权)人: 厦门乾照光电股份有限公司
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01L33/02;H01L33/00
代理公司: 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 代理人: 王园建
地址: 361000 福建省厦门市火炬*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种ODR结构的倒装发光二极管及制备方法、倒装高压LED,包括衬底上依次设置N型层、有源层和P型层,经刻蚀形成台阶裸露出部分N型层,P型层和裸露出的N型层上形成电流扩展层,电流扩展层上形成DBR层,DBR层刻蚀裸露出部分电流扩展层,DBR层和裸露出的部分电流扩展层上形成Ag反射层,Ag反射层经剥离分别形成和P型层与N型层上的电流扩展层欧姆接触的P接触金属层和N接触金属层。本发明提高了芯片的亮度,不需要额外蒸镀金属与N‑GaN形成欧姆接触,节省了工艺步骤和材料,成本低。另外,对于倒装高压LED,该Ag反射层既可以作为形成ODR结构的高反射金属,又可以作为原胞之间的互联金属,节省了工艺步骤,提高了芯片的亮度。
搜索关键词: 一种 odr 结构 倒装 发光二极管 制备 方法 高压 led
【主权项】:
一种ODR结构的倒装发光二极管,其特征在于:包括衬底、N型层、有源层、P型层、电流扩展层、DBR层和Ag反射层,衬底上依次设置N型层、有源层和P型层,P型层和有源层刻蚀形成台阶裸露出部分N型层,P型层和裸露出的N型层上形成电流扩展层,电流扩展层上形成DBR层,DBR层刻蚀裸露出部分电流扩展层,DBR层和裸露出的部分电流扩展层上形成Ag反射层,Ag反射层经剥离分别形成和P型层与N型层上的电流扩展层欧姆接触的P接触金属层和N接触金属层。
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