[发明专利]一种大垄平台栽培绿豆的方法在审

专利信息
申请号: 201610565573.8 申请日: 2016-07-18
公开(公告)号: CN106105724A 公开(公告)日: 2016-11-16
发明(设计)人: 张翼飞;于崧;杨克军;王玉凤;薛盈文;郭伟;于立河 申请(专利权)人: 黑龙江八一农垦大学
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 李娜
地址: 163000 黑*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 发明涉及一种大垄平台栽培绿豆的方法,属于绿豆栽培技术领域。秋整地起垄,在所述垄两侧设垄沟,所述垄设垄台,分别对垄沟和垄台中间部位进行深松,以起垄前的土地表面为基准,所述垄沟的深松深度为30~40cm,垄台中间的深松深度为15~30cm;整地时,将基肥施于垄台中间;将种肥施于播种位置下方;在垄台上进行绿豆的播种,所述播种共3行,形成3条苗带,所述播种的行间距为25~30cm,所述绿豆的品种为直立或半蔓生型抗倒高产绿豆品种;将追肥分别施于垄上左右两侧的苗带外侧,所述追肥施于垄台下方。本发明结合深松、播种和施肥的栽培方法,通透性好、抗逆性强,改善了绿豆群体光合作用生产效率和肥料利用率,可实现绿豆丰产优质高效生产。
搜索关键词: 一种 平台 栽培 绿豆 方法
【主权项】:
一种大垄平台栽培绿豆的方法,包括以下步骤:秋整地起垄,在所述垄两侧设垄沟,所述垄设垄台,分别对垄沟和垄台中间部位进行深松,以起垄前的土地表面为基准,所述垄沟的深松深度为30~40cm,垄台中间的深松深度为15~30cm;整地时,将基肥施于垄台中间;将种肥施于播种位置下方;在垄台上对绿豆进行播种,所述播种共3行,形成3条苗带,所述播种的行间距为25~30cm,所述绿豆的品种为直立或半蔓生型抗倒高产绿豆品种;将追肥分别施于垄上左右两侧的苗带外侧,所述追肥施于垄台下方。
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