[发明专利]一种静电保护结构有效

专利信息
申请号: 201610566061.3 申请日: 2016-07-18
公开(公告)号: CN106024762B 公开(公告)日: 2019-06-04
发明(设计)人: 孙博韬;王立新;张彦飞 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L23/60 分类号: H01L23/60
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 房德权
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种静电保护结构,设置于需要进行静电保护的器件的两个极之间,包括:外延层;两个第一阱区,位于所述外延层的表层;所述两个第一阱区中分别设置有一个第二阱区,共两个第二阱区;所述两个第二阱区分别与所述两个极接触;所述两个极之间设置有隔离氧化层,以在隔离所述两个极的同时,保护所述静电保护结构的表面;其中,所述外延层和所述两个第二阱区均为第一掺杂类型;所述两个第一阱区为第二掺杂类型。本发明提供的结构,用以解决现有技术中的ESD保护结构,存在的只具有单向阻断能力,不适用于功率器件的技术问题。提供了一种具有双向ESD防护能力,且与大部分功率器件制造工艺兼容的ESD保护结构。
搜索关键词: 一种 静电 保护 结构
【主权项】:
1.一种静电保护结构,其特征在于,所述静电保护结构设置于需要进行静电保护的器件的两个极之间,所述静电保护结构包括:外延层;两个第一阱区,位于所述外延层的表层;所述两个第一阱区中分别设置有一个第二阱区,共两个第二阱区;所述两个第二阱区分别与所述两个极接触;所述两个极之间设置有隔离氧化层,以在隔离所述两个极的同时,保护所述静电保护结构的表面;所述两个极分别为栅极和源极;N个静电保护加强结构,所述N个静电保护加强结构位于所述外延层的表层,设置于所述两个第一阱区之间,所述N个静电保护加强结构与所述两个第一阱区通过所述外延层隔离,N为自然数;所述静电保护加强结构包括与所述第一阱区掺杂类型相同的场限环,所述场限环包括多个单环;其中,所述外延层和所述两个第二阱区均为第一掺杂类型;所述两个第一阱区为第二掺杂类型。
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