[发明专利]一种抛光机的水冷下抛光盘结构在审
申请号: | 201610566982.X | 申请日: | 2016-07-19 |
公开(公告)号: | CN106078521A | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 乔卫民;李方俊;翟新;马艳 | 申请(专利权)人: | 苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司 |
主分类号: | B24B55/02 | 分类号: | B24B55/02;B24B41/047 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 曹毅 |
地址: | 215000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明是一种抛光机的水冷下抛光盘结构,包括下盘工作盘,在所述下盘工作盘的一端侧设有下盘基盘,所述下盘基盘与下盘工作盘之间的结合面处形成冷却腔,在下盘基盘上分别设有与冷却腔连通的进水口和出水口。本发明的水冷结构避免了冷却水走捷径,只有在冷却水充满腔体后才能从出水口流出,确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却,及时带走因加工而产生的热量,对抛盘起到了强制冷却的作用,较传统的被动式冷却更可靠,并可以结合精密的测温系统及冷却水流量调节系统,实现抛盘温度的精密控制。 | ||
搜索关键词: | 一种 抛光机 水冷 抛光 盘结 | ||
【主权项】:
一种抛光机的水冷下抛光盘结构,包括下盘工作盘(7),其特征在于,在所述下盘工作盘(7)的一端侧设有下盘基盘(9),所述下盘基盘(9)与下盘工作盘(7)之间的结合面处形成冷却腔(3),在下盘基盘(9)上分别设有与冷却腔(3)连通的进水口(8)和出水口(5)。
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