[发明专利]以双轴同步延伸方式制造相位差膜的制造方法及其相位差膜

摘要

本发明关于一种以双轴同步延伸方式制造相位差膜的方法，以聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)材质的铸材薄膜于行进方向及宽幅方向同时进行延伸至1.0～5.0倍，以获得大尺寸薄膜。并且，以退火温度参数及搭配薄膜行进方向及宽幅方向同时进行回缩，控制因延伸应力造成折射下降。为了进一步控制薄膜光学高度均匀性，通过延伸薄膜表面温度控制后改善延伸时薄膜行进方向所造成的光学变异，进而达到下列薄膜光学特性：R0:0～3nm(其中，R0＝α△T_延伸温度+β△X_延伸倍率+γ△T_退火温度+δ△X_回缩比例+C1)，以及Rth:0～‑40nm(其中，Rth＝a△T_延伸温度+b△X_延伸倍率+c△T_退火温度+d△X_回缩比例+C2)。

主权项

1.一种以双轴同步延伸方式制造相位差膜的制造方法，其特征在于：包括下列步骤：步骤A：提供一铸材薄膜；步骤B：在一预热程序中，在一预定的预热温度下，对该铸材薄膜进行预热；步骤C：在一延伸程序中，在一预定的延伸温度下，对该铸材薄膜进行一双轴同步延伸的拉伸程序；其中，在该延伸程序中，该铸材薄膜被拉伸在纵向的延伸倍率与横向的延伸倍率都是介于1.0～5.0倍；步骤D：在一退火程序中，在一预定的退火温度下，对该铸材薄膜进行退火，使该铸材薄膜在其纵向与横向两者同步回缩；以及步骤E：在一冷却程序中，在一预定的冷却温度下，对该铸材薄膜进行冷却，并输出一输出相位差膜；其中，该预定的延伸温度、该纵向的延伸倍率、该横向的延伸倍率、以及该预定的退火温度符合以下数学条件：R0＝α*ΔTe+β*ΔXe+γ*ΔTs+δ*ΔXs+C1；Rth＝a*ΔTe+b*ΔXe+c*ΔTs+d*ΔXs+C2；其中，R0是该输出相位差膜的面内相位差值，且R0值介于0～3nm；Rth是该输出相位差膜于厚度方向的相位差值，且Rth值介于0～‑40nm；ΔTe是在该延伸程序中的温度差值，且ΔTe＝Text–Tg；ΔXe是在该延伸程序中的拉伸倍率差值，且ΔXe＝纵向的延伸倍率‑横向的延伸倍率；ΔTs是在该退火程序中的温度差值，且ΔTs＝Tshrink–Tg；ΔXs是在该退火程序中该铸材薄膜的回缩比例值，且ΔXs＝[(1–MDshrink)*(1–TDshrink)‑1]；其中，该MDshrink是该铸材薄膜在该退火程序中于该纵向上的一收缩比例，且TDshrink是该铸材薄膜在该退火程序中于该横向上的一收缩比例；α、β、γ、δ、C1、a、b、c、d及C2都是机台参数，Tg是材料参数；其中，α＝–0.0879，β＝–6.24，γ＝0.011，δ＝–12.8，C1＝2.19，a＝0.958，b＝2.5，c＝0.321，d＝12.1，C2＝–39.4，Tg＝118。