[发明专利]一种光电降解用的石墨烯纳米层有效

专利信息
申请号: 201610573161.9 申请日: 2016-07-21
公开(公告)号: CN106185907B 公开(公告)日: 2018-07-13
发明(设计)人: 刘伟 申请(专利权)人: 绍兴文理学院
主分类号: C01B32/184 分类号: C01B32/184
代理公司: 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 代理人: 李静
地址: 312000 浙江省绍兴市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种光电降解用的石墨烯纳米层,其配方如下:石墨100份、分散剂10‑15份、改性剂2‑8份、乙醇水溶液150‑200份、石墨膨胀液120‑150份、氧化液110‑170份、羧酸改性剂18‑26份。本发明有效修复石墨烯的孔洞、空位缺陷等,大大提高了石墨烯纳米层的传导效率,增加光电降解速率。
搜索关键词: 石墨烯纳米层 光电降解 石墨 孔洞 乙醇水溶液 羧酸改性剂 传导效率 空位缺陷 分散剂 改性剂 膨胀液 石墨烯 氧化液 配方 修复
【主权项】:
1.一种光电降解用的石墨烯纳米层,其配方如下:石墨100份、分散剂10‑15份、纳米碳酸钙改性剂2‑8份、乙醇水溶液150‑200份、石墨膨胀液120‑150份、氧化液110‑170份、羧酸改性剂18‑26份。
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