[发明专利]用于等离子体蚀刻腔室的孔部件

摘要

本文描述的实施例提供使用具有可移动式孔的离子蚀刻腔室来蚀刻基板的设备及方法。离子蚀刻腔室具有腔室主体，腔室主体包围处理区域、基板支撑件、等离子体源、离子‑自由基屏蔽件及可移动式孔部件。基板支撑件布置于处理区域中且具有基板接收表面。等离子体源布置于面对基板接收表面的腔室主体的壁上。离子‑自由基屏蔽件布置于等离子体源与基板接收表面间。可移动式孔部件介于离子‑自由基屏蔽件与基板接收表面间。可移动式孔部件通过升举组件而致动，升举组件包含升举环及自升举环至孔部件的升举支撑件。离子‑自由基屏蔽件通过经由孔部件而布置的屏蔽件支撑件而支撑。孔大小、形状及/或中心轴位置可藉使用插入件而改变。

主权项

1.一种用于等离子体蚀刻腔室的孔组件，所述孔组件包含：孔部件，所述孔部件包括：圆盘且具有孔，所述圆盘具有至少6英寸的外直径，所述孔形成为通过所述圆盘的中央部分，所述孔具有长方形形状以及支撑第二部件的轮廓成形内壁，所述第二部件与所述孔部件有基本上平行的关系；以及边缘屏蔽件，所述边缘屏蔽件延伸超过所述孔部件并且朝向布置于所述等离子体蚀刻腔室中的基板支撑件的基板接收表面延伸。