[发明专利]使用锯齿状空间滤光片的高效线形成光学系统及方法在审

专利信息
申请号: 201610578685.7 申请日: 2016-07-21
公开(公告)号: CN106373909A 公开(公告)日: 2017-02-01
发明(设计)人: S·阿尼基特切夫 申请(专利权)人: 超科技公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/268;G02B27/09
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 申发振
地址: 美国加*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及使用锯齿状空间滤光片的高效线形成光学系统及方法。所述线形成光学系统包括激光源;光束调节光学系统;第一光圈器件;及中继光学系统,该中继光学系统包括具有该锯齿状光圈的第二光圈器件。该锯齿状光圈由相对的锯齿状叶片来界定,相较于使用具有笔直边缘叶片的光圈,该锯齿状叶片被配置以减小在图像平面处所形成的线图像的强度变化。
搜索关键词: 使用 锯齿状 空间 滤光 高效 线形 光学系统 方法
【主权项】:
一种在缺陷退火温度TD处对具有包括图案的表面的半导体晶片执行缺陷退火的方法,所述方法包含:从CO2激光器形成具有标称为10.6微米的波长λ及第一强度剖面的光束,所述第一强度剖面在至少第一方向上具有高斯分布;使所述光束在第一方向上的至少50%穿过以形成第一透射光;将所述第一透射光聚焦到傅立叶平面处以界定具有中心峰及紧邻所述中心峰的第一侧峰的第二强度剖面;由置于所述傅立叶平面处的锯齿状光圈在所述第一侧峰中的每个第一侧峰内截断所述第二强度剖面以界定第二透射光,所述第二透射光在半导体晶片的所述表面上形成第一线图像,所述第一线图像具有1000W与3000W之间的光功率以及在5mm至100mm的范围内的第一线长度上的+/‑5%内的强度均匀性;及在半导体晶片的所述表面上扫描所述第一线图像以使半导体晶片的所述表面的温度局部地升高至所述缺陷退火温度TD。
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