[发明专利]激光诱导瞬态热探针的纳米光刻方法有效
| 申请号： | 201610580128.9 | 申请日： | 2016-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN106227000B | 公开（公告）日： | 2018-04-13 |
| 发明（设计）人： | 魏劲松;魏涛 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/26 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司31213 | 代理人： | 张泽纯,张宁展 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种基于激光诱导瞬态热探针的纳米光刻方法，其特征在于当准直的激光束聚焦到非线性材料时，诱导出材料的非线性特性。由于激光强度的高斯分布特点，使激光中心区域的能量最高，并沿着径向逐渐减弱，激光能量转化为材料的温度差，从而在非线性材料内部诱导产生瞬态热探针。在光刻过程中，激光束打开，热探针形成；激光束关闭，热探针消失。形成的热探针随着激光束自由移动，热探针的形成与关闭是动态的、可逆的。本发明简单实用，不需要复杂的操作，特别适用于透明材料的微纳结构制造，能获得纳米尺度的特征线宽。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 诱导 瞬态 探针 纳米 光刻 方法 | ||
【主权项】：
一种激光诱导瞬态热探针的纳米光刻方法，其特征在于该方法包括以下几个步骤：a)在基片上用磁控溅射的方法镀上一层热刻蚀薄膜；b)在所述的热刻蚀薄膜上再镀上一层非线性薄膜构成待刻样品；c)利用激光直写系统对所述的待刻样品的热刻蚀薄膜进行纳米光刻；d)对待刻样品进行湿法刻蚀，去除所述的非线性薄膜；e)对待刻样品进行湿法显影得到具有所需的纳米结构的样品；所述的非线性薄膜的材料为Sb。
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