[发明专利]一种亚微米级无基底支撑高分子薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 201610584547.X | 申请日： | 2016-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN107129586A | 公开（公告）日： | 2017-09-05 |
| 发明（设计）人： | 张克勤;李青松;彭瑜;张骁骅;王涛;何志成 | 申请（专利权）人： | 苏州蓝锐纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08L89/00 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种亚微米级无基底支撑高分子薄膜的制备方法，操作简便，成品率高。该制备方法是通过将框架置于高分子溶液内然后取出晾干，最终在框架上形成高分子薄膜。这种方法形成的薄膜没有基底支撑，可以直接从框架上取下来，经测量发现这种方法制备的薄膜厚度在亚微米级别，其尺度范围与其他方法具有较好的可比性。同时，该方法简单快速，完全避免了薄膜与基底的接触时基底去除对薄膜的损伤，成品率高，这都是其他方法所不具备的，具有较大的优势和竞争力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微米 基底 支撑 高分子 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种亚微米级无基底支撑高分子薄膜的制备方法，其特征在于：通过将框架置于高分子溶液内然后取出晾干，最终在框架上形成高分子薄膜。
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