[发明专利]一种基于无掩膜直写系统套刻曝光的定位方法

摘要

本发明涉及一种基于无掩膜直写系统套刻曝光的定位方法，与现有技术相比解决了衬底旋转偏差的补偿必须依靠精密运动工作台实现的缺陷。本发明包括以下步骤套刻标记的确定；套刻标记实际位置的获取；套刻标记理论位置的获取；计算套刻标记实际位置与套刻标记理论位置的映射关系；GDS图形的调整；曝光流程的执行。本发明通过改变分图处理器内的GDS图形来完成套刻曝光的补偿定位，直接由分图处理器对曝光图形进行旋转变换，便可补偿套刻旋转偏差，无需增加高精度转台，衬底自身不产生位移和运动，减少了硬件投入，降低了生产成本。

主权项

一种基于无掩膜直写系统套刻曝光的定位方法，无掩膜直写系统包括曝光光源(1)、照明反光镜(2)、照明光束调制系统(3)、可编程数字图形发生器(4)、分图处理器(5)、对准系统(6)、投影物镜(7)、衬底(8)和固定工件台(9)，曝光光源(1)发出的光线经照明反光镜(2)和照明光束调制系统(3)调制后，形成光斑照射到可编程数字图形发生器(4)的表面，经其反射后再经过投影物镜(7)照射到衬底(8)上，其特征在于，其套刻曝光的定位方法包括以下步骤：11)套刻标记的确定，将具有套刻标记的衬底(8)放置在固定工件台(9)上，其中衬底(8)上套刻标记的数量大于或等于3个；12)套刻标记实际位置的获取，通过对准系统(6)对衬底(8)上所有套刻标记均进行实际位置的获取，获取到第i个套刻标记在固定工件台(9)坐标系下的实际位置坐标Wi(x',y')；13)套刻标记理论位置的获取，分图处理器(5)调取预编制的GDS图形以得到所有套刻标记的理论位置，获取预编制的GDS图形中第i个套刻标记的理论位置坐标Ti(x,y)；14)计算套刻标记实际位置与套刻标记理论位置的映射关系，可编程数字图形发生器(4)获取套刻标记实际位置坐标W(x′，y′)和套刻标记的理论位置坐标T(x，y)，计算出套刻标记实际位置与理论位置之间的映射关系；15)GDS图形的调整，可编程数字图形发生器(4)将映射关系发给分图处理器(5)，分图处理器(5)将要曝光的GDS图形中的理论位置均按映射关系计算出其在衬底(8)上的实际位置，根据GDS图形的实际位置形成新的曝光图形；16)曝光流程的执行，分图处理器(5)将新的曝光图形传给可编程数字图形发生器(4)，可编程数字图形发生器(4)根据新的曝光图形确定曝光起始点并执行曝光流程。