[发明专利]像素界定层的制作方法与OLED器件的制作方法

摘要

本发明提供一种像素界定层的制作方法与OLED器件的制作方法。本发明的像素界定层的制作方法，在有机材料坝体的侧面形成无机覆层，得到数条像素隔离坝，然后对数条像素隔离坝进行等离子体疏水处理，使得有机材料坝体的上表面变为疏水性，形成像素界定层，由于像素隔离坝的上表面具有疏水性，可以使墨水能够更好地进入像素凹槽内，不在像素隔离坝的上表面残留，像素隔离坝的侧面为具有亲水性的无机覆层，可以使墨水很好地铺展开，不因为侧面疏水而造成接触角较大，膜厚较薄，另外一方面，像素隔离坝的侧面采用无机材料，相比于有机材料，性能更加稳定，绝缘性更好，与OLED材料接触，可以使OLED材料更加稳定，延长使用寿命。

主权项

一种像素界定层的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、提供一TFT基板(10)，在所述TFT基板(10)上涂覆形成一层有机材料层，并通过一道黄光制程对其进行图案化处理，形成数条有机材料坝体(21)，所述有机材料坝体(21)具有侧面和上表面；步骤2、在所述TFT基板(10)、及数条有机材料坝体(21)上沉积形成一层无机材料层(22’)，并通过一道黄光制程对其进行图案化处理，形成覆盖于所述数条有机材料坝体(21)的侧面和上表面上的中间无机材料层(22”)；步骤3、通过一道黄光制程对所述中间无机材料层(22”)进行图案化处理，将中间无机材料层(22”)上对应于所述数条有机材料坝体(21)的上表面的部分去除，露出所述数条有机材料坝体(21)的上表面，形成覆盖于所述数条有机材料坝体(21)的侧面上的无机覆层(22)，得到数条像素隔离坝，所述数条像素隔离坝在所述TFT基板(10)上围出数个像素凹槽，所述数个像素凹槽的槽壁为无机覆层(22)，形成像素界定层(20)；步骤4、对所述TFT基板(10)上的像素界定层(20)进行等离子体疏水处理，使得所述数条有机材料坝体(21)的上表面变为疏水性。