[发明专利]一种彩膜基板的制造方法有效
申请号: | 201610591884.1 | 申请日: | 2016-07-25 |
公开(公告)号: | CN105974655B | 公开(公告)日: | 2019-05-28 |
发明(设计)人: | 王浩 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 430070 湖北省武汉市武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种彩膜基板的制造方法,包括如下步骤:在玻璃基板上制作黑色矩阵;在所述玻璃基板及所述黑色矩阵上涂布光刻胶,形成光刻胶层;在曝光载台上放置透气隔垫;将所述玻璃基板放置于所述透气隔垫上,并将所述玻璃基板吸附在所述曝光载台上;在曝光载台上,对所述光刻胶层进行曝光显影,形成色阻。本发明在彩膜基板的曝光显影过程中,在曝光载台与玻璃基板之间放置透气隔垫,使得玻璃基板及其上的光刻胶层各处保持平整,避免了曝光显影完成后,在光刻胶层上形成条状波纹不良,从而提升彩膜基板的制造良率,提高液晶显示器的成像效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 彩膜基板 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种彩膜基板的制造方法,其特征在于,包括如下步骤:在玻璃基板上制作黑色矩阵;在所述玻璃基板及所述黑色矩阵上涂布光刻胶,形成光刻胶层;在曝光载台上放置透气隔垫;将所述玻璃基板放置于所述透气隔垫上,并将所述玻璃基板吸附在所述曝光载台上;在曝光载台上,对所述光刻胶层进行曝光显影,形成色阻。
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