[发明专利]一种超级结肖特基二极管有效

专利信息
申请号: 201610596069.4 申请日: 2016-07-25
公开(公告)号: CN106024915B 公开(公告)日: 2019-01-01
发明(设计)人: 任敏;林育赐;包惠萍;罗蕾;李泽宏;张波 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/06;H01L29/47;H01L21/329
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 葛启函
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于半导体器件技术领域,涉及一种超级结肖特基二极管。本发明的特征在于:通过在器件体内沟槽处形成肖特基结,增大了肖特基结的有效面积,从而提高器件的电流能力。同时在反向偏压时,利用超级结结构提高器件的反向击穿电压,减小器件的反向漏电。采用本发明可以具有较大的正向电流、较低的导通电阻以及较好的反向击穿特性。
搜索关键词: 一种 超级 结肖特基 二极管
【主权项】:
1.一种超级结肖特基二极管,包括从下至上依次层叠设置的金属化阴极(1)、N+衬底(2)、N型漂移区(3)和金属化阳极(9);所述N型漂移区(3)中具有P型埋层(4)、P型柱区(5)、P+重掺杂区(6)、N型轻掺杂区(8)以及沟槽(7);所述P型埋层(4)位于沟槽(7)的正下方,且P型埋层(4)的上表面与沟槽(7)的下表面接触;所述P型柱区(5)位于相邻两个沟槽(7)之间;所述P+重掺杂区(6)位于P型柱区(5)的正上方,且P+重掺杂区(6)的下表面与P型柱区(5)的上表面接触;所述N型轻掺杂区(8)位于沟槽(7)的侧面及N型漂移区(3)的上表面;金属填充在沟槽(7)中且覆盖在N型轻掺杂区(8)上表面,所述金属与N型轻掺杂区(8)形成肖特基结;所述金属的上表面与金属化阳极(9)的下表面接触,所述P+重掺杂区(6)的上表面与金属化阳极(9)的下表面接触;所述P型埋层(4)下表面的结深与P型柱区(5)下表面的结深相同。
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