[发明专利]一种抛光机的水冷下抛光盘结构在审

专利信息
申请号: 201610601957.0 申请日: 2016-07-28
公开(公告)号: CN106064350A 公开(公告)日: 2016-11-02
发明(设计)人: 乔卫民;翟新;李方俊;马艳 申请(专利权)人: 苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司
主分类号: B24B55/02 分类号: B24B55/02;B24B41/047
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 曹毅
地址: 215000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种抛光机的水冷下抛光盘结构,包括下盘工作盘,所述下盘工作盘的下方设有水冷盘,所述水冷盘与所述下盘工作盘之间设有冷却腔,所述水冷盘上设有进水口和出水口,所述水冷盘上设有扇形冷却腔,所述扇形冷却腔内设有分流筋。本发明采用特殊的水冷盘结构避免了冷却水走捷径,只有在冷却水充满腔体后才能从出水口流出,确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却,及时带走因加工而产生的热量,对抛盘起到了强制冷却的作用,较传统的被动式冷却更可靠;结合精密的测温系统及冷却水流量调节系统,实现了抛盘温度的精密控制。
搜索关键词: 一种 抛光机 水冷 抛光 盘结
【主权项】:
一种抛光机的水冷下抛光盘结构,其特征在于,包括下盘工作盘(3),所述下盘工作盘(3)的下方设有水冷盘(1),所述水冷盘(1)与所述下盘工作盘(3)之间设有冷却腔(4),所述水冷盘(1)上设有进水口(6)和出水口(8),所述水冷盘(1)上设有扇形冷却腔(7),所述扇形冷却腔(7)内设有分流筋(9)。
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