[发明专利]一种用于半导体设备的光学检测装置和检测方法有效
| 申请号： | 201610605413.1 | 申请日： | 2016-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN107664476B | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 张辉;杜冰洁 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G01B11/24;H01L21/66 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 潘朱慧;周荣芳 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于半导体设备的光学检测装置，能够监测刻蚀孔的开口尺寸或形貌变化。本发明光学检测装置包括一个腔体，腔体内包括一个基座，基座上固定有晶圆，晶圆上表面具有刻蚀形成的孔或槽，所述晶圆上方设置有一个参考光源用于发射参考光到所述晶圆，还包括一个接收器用于接收从晶圆上反射的参考光，其特征在于，所述参考光入射到晶圆表面的光束与晶圆平面的夹角小于45度，所述接收器位于参考光源同侧；一个控制器接收并处理所述接收器接收到的光信号。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 半导体设备 光学 检测 装置 方法 | ||
【主权项】：
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