[发明专利]一种用于红外光谱的衬底有效
申请号: | 201610605777.X | 申请日: | 2016-07-28 |
公开(公告)号: | CN106206776B | 公开(公告)日: | 2017-07-25 |
发明(设计)人: | 戴庆;胡海;胡德波;刘瑞娜;白冰;杨晓霞 | 申请(专利权)人: | 国家纳米科学中心 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236 |
代理公司: | 北京律恒立业知识产权代理事务所(特殊普通合伙)11416 | 代理人: | 顾珊,庞立岩 |
地址: | 100190 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明提供了一种用于红外光谱的衬底,这种衬底的结构包括窗口层和支撑基底,窗口层位于支撑基底之上,选用单原子至1000个原子层厚度的二维材料;支撑基底的横向切面形状为圆形、椭圆形、三角形、正方形、矩形、五角形结构、正六边形、八角形,所述支撑基底的几何尺寸为500μm‑5cm,厚度为1μm‑5cm;支撑基底其上设置有若干通孔结构,通孔以阵列形式排布,通孔阵列的中心与基底的几何中心基本保持一致,通孔之间的间距为1μm‑4cm;所述通孔对应的窗口层部位形成悬空的窗口层;其中所述二维材料选自石墨烯,二硫化钼,氮化硼,MX2,黑磷。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 红外 光谱 衬底 | ||
【主权项】:
一种用于红外光谱的衬底,这种衬底的结构包括窗口层和支撑基底,窗口层位于支撑基底之上,选用单原子至1000个原子层厚度的二维材料;支撑基底的横向切面形状为圆形、椭圆形、三角形、正方形、矩形、五角形结构、正六边形、八角形,所述支撑基底的几何尺寸为500μm‑5cm,厚度为1μm‑5cm;支撑基底其上设置有若干通孔结构,通孔以阵列形式排布,通孔阵列的中心与基底的几何中心基本保持一致,通孔之间的间距为1μm‑4cm;所述通孔对应的窗口层部位形成悬空的窗口层;其中所述二维材料选自石墨烯,二硫化钼,氮化硼,MX2,黑磷;其中所述MX2中M选自Ti,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Re,X选自S,Se,Te。
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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