[发明专利]一种离型膜及其制造方法有效
申请号: | 201610606420.3 | 申请日: | 2016-07-28 |
公开(公告)号: | CN106010233B | 公开(公告)日: | 2019-01-22 |
发明(设计)人: | 廖德超;徐森煌;吴照泉 | 申请(专利权)人: | 南亚塑胶工业股份有限公司 |
主分类号: | C09D183/04 | 分类号: | C09D183/04;C09D5/20;C09D7/20;C08J7/04 |
代理公司: | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 张皓;徐琳 |
地址: | 中国台湾台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种离型膜用于承载厚度0.5‑1微米陶瓷生胚薄片,通过导入改性有机粒子及抗静电剂,所述离型膜的离型表面具滑性且摩擦系数较低,具优异涂布性及剥离性,当卷绕成辊筒状时,其卷绕的卷层表面间不生粘附现象;且所述离型膜可减少其与陶瓷生胚薄片间的剥离静电,可保持厚度1μm陶瓷生胚薄片易撕离且没有出现裂膜缺陷,有助于提升陶瓷生胚薄片的生产良率。 | ||
搜索关键词: | 一种 离型膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种离型膜,包含一薄膜基材,且所述薄膜基材的一面或双面表面涂布有一剥离液涂层,其特征在于,所述剥离液涂层厚度介于0.04~0.8μm,且所述剥离液涂层是由包含下列a~e成份的涂液组合物经过热固化温度50~180℃下热处理5秒以上构成;基于涂液组合物总重量,a.硅氧树脂,占0.5~7.0wt%;b.铂催化剂,占0.06~0.3wt%;c.含丁酮/甲苯/二甲苯的混合溶剂,占90.9~99.4wt%;d.改性PMMA球或改性PS球的其中一种单独使用或一种以上混合并用,占0.02~0.8wt%,且所述改性PMMA球或所述改性PS球的平均粒径,介于20~280纳米(nm);e.抗静电剂,占0.02~1.0wt%,其中,所述抗静电剂选自导电碳材、离子液体抗静电剂或导电高分子型抗静电剂;其中,所述改性PMMA球具有如下化学结构:其中,q为大于零的正整数:所述改性PS球具有如下化学结构:其中,p为大于零的正整数。
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C09 染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物,例如色漆、清漆或天然漆;填充浆料;化学涂料或油墨的去除剂;油墨;改正液;木材着色剂;用于着色或印刷的浆料或固体;原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物;基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个,但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D 涂料组合物,例如色漆、清漆或天然漆;填充浆料;化学涂料或油墨的去除剂;油墨;改正液;木材着色剂;用于着色或印刷的浆料或固体;原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物;基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个,但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接