[发明专利]光刻系统有效

专利信息
申请号: 201610607707.8 申请日: 2016-07-29
公开(公告)号: CN106094448B 公开(公告)日: 2019-06-07
发明(设计)人: 李继刚 申请(专利权)人: 苏州亿拓光电科技有限公司
主分类号: G03F7/207 分类号: G03F7/207;G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 王锋
地址: 215123 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本申请公开了一种光刻系统,包括光源、以及沿光路方向依次设置的空间光调制器、第一分光器件、双远心光学系统和光刻平台,所述双远心光学系统由沿光路方向依次设置的镜筒透镜和物镜组成,所述镜筒透镜和物镜之间光线为非平行光,所述物镜与调焦装置连接,该调焦装置带动所述物镜移动以实现焦距调节。本发明光刻系统优点至少包括:在主光路中无分光器件,成像质量好;检测系统中全部由成像光学元件组成,检测光斑投射在工件表面的尺寸较大,不容易受到灰尘和颗粒影响;检测系统和调焦系统采用机械切换方式,光路结构简单,操作方便。
搜索关键词: 光刻 系统
【主权项】:
1.一种光刻系统,其特征在于,包括光源、以及沿光路方向依次设置的空间光调制器、第一分光器件、双远心光学系统和光刻平台,所述双远心光学系统由沿光路方向依次设置的镜筒透镜和物镜组成,所述物镜与调焦装置连接,该调焦装置带动所述物镜移动以实现焦距调节,所述空间光调制器和第一分光器件之间无分光器件,还包括调焦系统,该调焦系统包括透镜组和第一CCD传感器,所述透镜组设置于第一CCD传感器和第一分光器件之间,还包括检测系统,该检测系统采用投影成像光路,由成像光学元件组成,其将直径大于0.5mm的光斑投影在光刻平台表面,所述检测系统包括检测光源、第二分光器件、成像透镜和第二CCD传感器,检测光斑投影在光刻平台上并经反射后,检测光斑依次经过双远心光学系统、第二分光器件和成像透镜,并成像在第二CCD传感器上,所述调焦系统和检测系统均设置于第一分光器件的上方,还包括分别连接于所述调焦系统和检测系统的切换装置,在调焦模式下,该切换装置驱动所述调焦系统整体移动至第一分光器件的正上方并位于第一分光器件所在的光路上;在检测模式下,该切换装置驱动所述检测系统整体移动至第一分光器件的正上方并位于检测光斑的发射光路上,所述光刻平台为可实现多轴移动的运动平台。
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