[发明专利]等离子体系统及使用该系统进行处理的方法在审
| 申请号： | 201610608823.1 | 申请日： | 2016-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN106409642A | 公开（公告）日： | 2017-02-15 |
| 发明（设计）人： | M·恩格尔哈特 | 申请（专利权）人： | 英飞凌科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人： | 郑立柱,张昊 |
| 地址： | 德国诺伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及等离子体系统及使用该系统进行处理的方法。其中等离子体系统包括等离子体室，其包括室壁，具有设置在室壁内的第一焦线和第二焦线。第一天线在第一焦线处设置在等离子体室内。室壁被配置为将来自第一天线的辐射聚焦到第二焦线上。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 系统 使用 进行 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体系统，包括：等离子体室，包括室壁，所述等离子体室包括第一焦线和第二焦线；以及第一天线，设置在所述等离子体室内，位于所述第一焦线处，其中所述室壁被配置为将来自所述第一天线的辐射聚焦到所述第二焦线上。
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