[发明专利]形成图案的方法

摘要

本发明公开了一种形成图案的方法。首先，提供一衬底，于衬底上形成一目标层；再于目标层上形成多个第一抗蚀图案；然后于第一抗蚀图案上全面沉积一定向自组装材料层，其中定向自组装材料层填满第一抗蚀图案之间的空隙；之后对定向自组装材料层进行一自组装过程，于定向自组装材料层中形成重复排列的嵌段共聚物图案；最后从定向自组装材料层中移除不需要的部分，于目标层上形成第二抗蚀图案。

主权项

1.一种形成图案的方法，其包括：提供衬底，在所述衬底上形成目标层；在所述目标层上涂布光刻胶层；执行光刻工艺以将所述光刻胶层图案化为多个第一抗蚀图案，所述多个第一抗蚀图案中的每一者具有宽度L₁；在所述第一抗蚀图案上全面沉积定向自组装DSA材料层，其中所述DSA材料层填满所述第一抗蚀图案之间的空隙；对所述DSA材料层进行自组装过程，以在所述第一抗蚀图案上形成第一嵌段共聚物图案、并在相邻的第一抗蚀图案之间的间隙上形成第二嵌段共聚物图案，每个第一嵌段共聚物图案具有大于所述宽度L₁的宽度W₁；移除所述第二嵌段共聚物图案，以在所述目标层上形成第二抗蚀图案，其中所述第二抗蚀图案覆盖所述多个第一抗蚀图案中的每一者且具有大于所述宽度L₁的宽度W₁；以及将所述第二抗蚀图案和所述多个第一抗蚀图案一起用作蚀刻硬掩膜，执行蚀刻工艺以将所述第二抗蚀图案转移至所述目标层。