[发明专利]一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶在审
| 申请号： | 201610610981.0 | 申请日： | 2016-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN106011767A | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 王进东 | 申请（专利权）人： | 江苏宇天港玻新材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京君华知识产权代理事务所(普通合伙) 11515 | 代理人： | 李海峰 |
| 地址： | 223100 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶,包括旋转镍铬靶管体，固定卡扣，旋转轴，电机，电机控制单元，支撑架；所述旋转镍铬靶管体两端分别连有两个所述旋转轴，所述旋转轴通过所述固定卡扣配合与所述旋转镍铬靶管体相对固定，所述旋转镍铬靶管体一端的所述旋转轴与所述支撑架相连，所述旋转镍铬靶管体另一端的所述旋转轴与所述电机相连。本发明的靶材利用率高，溅射速率高，有效减少打弧和靶面掉渣，工艺稳定性好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 工艺 使用 旋转 镍铬靶 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶，其特征在于，包括旋转镍铬靶管体（1），固定卡扣，旋转轴，电机（4），电机控制单元，支撑架（5）；所述旋转镍铬靶管体（1）两端分别连有两个所述旋转轴，所述旋转轴通过所述固定卡扣配合与所述旋转镍铬靶管体（1）相对固定，所述旋转镍铬靶管体（1）一端的所述旋转轴（31）与所述支撑架（5）相连，所述旋转镍铬靶管体（1）另一端的所述旋转轴（32）与所述电机（4）相连。
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