[发明专利]一种基于氧化锌/碳杂化纳米结构的多比特存储器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201610611579.4 申请日: 2016-07-30
公开(公告)号: CN106206941A 公开(公告)日: 2016-12-07
发明(设计)人: 石海平;程抱昌 申请(专利权)人: 南昌大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 代理人: 施秀瑾
地址: 330031 江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 一种基于氧化锌/碳杂化纳米结构的多比特存储器,其特征是包括源极、二氧化硅氧化层、P型硅片、单根一维氧化锌/碳杂化纳米线、栅极、漏极、导线;在P型硅片上表面为二氧化硅氧化层,在二氧化硅氧化层的中间位置水平放置单根一维氧化锌/碳杂化纳米线,单根一维氧化锌/碳杂化纳米线的两端分别为源极和漏极,栅极位于P型硅片衬底底面中心;源极、漏极、栅极分别通过在单根一维ZnO/C杂化纳米线的两端和P型硅片衬底底面中心点银、金或铂浆获得。本发明的多比特存储器具有良好的电阻开关特性,可作为场效应晶体管存储器件使用,器件的制备工艺简单,对实际应用非常有利。
搜索关键词: 一种 基于 氧化锌 碳杂化 纳米 结构 比特 存储器 及其 制备 方法
【主权项】:
一种基于氧化锌/碳杂化纳米结构的多比特存储器,其特征是包括源极(1)、二氧化硅氧化层(2)、P型硅片(3)、单根一维氧化锌/碳杂化纳米线(4)、栅极(5)、漏极(6)、导线(7);在P型硅片(3)上表面为二氧化硅氧化层(2),在二氧化硅氧化层(2)的中间位置水平放置单根一维氧化锌/碳杂化纳米线(4),单根一维氧化锌/碳杂化纳米线的两端分别为源极(1)和漏极(6),栅极(5)位于P型硅片(3)衬底底面中心;所述的源极(1)、漏极(6)、栅极(5)分别通过在单根一维ZnO/C杂化纳米线的两端和P型硅片(3)衬底底面中心点银、金或铂浆获得。
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