[发明专利]一种半导体泵浦激光清洗机的激光光路系统有效

专利信息
申请号: 201610616108.2 申请日: 2016-08-01
公开(公告)号: CN106025777B 公开(公告)日: 2019-02-05
发明(设计)人: 周倩;周健;周彪 申请(专利权)人: 苏州艾思兰光电有限公司
主分类号: H01S3/0941 分类号: H01S3/0941;H01S3/109;H01S3/117;H01S3/16;B08B7/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215123 江苏省苏州市工业*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种半导体泵浦激光清洗机的激光光路系统,涉及激光清洗技术领域,采用双泵浦光源对激光晶体进行泵浦激励,形成一次谐波后,通过腔内二倍频变换和三倍频变换产生紫外激光束输出,该紫外激光束有电光转换效率高、高重频、窄脉宽、低损伤阈值等特点。使用本发明所述的光路系统的激光器重复频率可达20‑100KHz,在100KHz重复频率下,355nm激光平均输出功率可达10W,通过声光调Q开关,激光输出脉宽可达40ns,光束质量因子M^2<1.2,激光远程发散角可控制在1mrad;可用于高精度的激光无损清洁,清洁效果良好,适合大面积激光清洗使用。
搜索关键词: 一种 半导体 激光 清洗 系统
【主权项】:
1.一种半导体泵浦激光清洗机的激光光路系统,其特征在于:包括808nm激光泵浦光路、1064nm红外光路、532nm绿光光路、355nm紫外光路;所述808nm激光泵浦光路包括两组对称泵浦光路,第一光路依次包括第一连续泵浦光源(LD1)、第一平凸准直镜(L1)、第一平凸聚焦镜(L2)、第一窗口片(W1)、第一平面反射镜(M8)、第一分光片(M2),第二光路依次包括第二连续泵浦光源(LD2)、第二平凸准直镜(L3)、第二平凸聚焦镜(L4)、第二窗口片(W2)、第二平面反射镜(M7)、第二分光片(M3);所述连续泵浦光源发出的光线依次经过所述第一、第二平凸准直镜、所述第一、第二平凸聚焦镜、所述第一、第二窗口片、所述第一、第二平面反射镜、所述第一、第二分光片聚集于激光晶体(LC)上;所述连续泵浦光源为808nm激光泵浦光源,所述第一、第二平凸准直镜焦距为40mm,镀808nm增透膜,所述第一、第二聚焦镜焦距为80mm,镀808nm增透膜;所述第一、第二窗口片镀808nm增透膜;所述第一、第二平面反射镜入射面镀45°入射808nm高反射膜;所述第一分光片(M2)入射面镀45°入射1064nm高反射、808nm高透射膜,其相对面镀45°入射808nm高透射膜;所述第二分光片(M3)入射面镀45°入射1064nm高反射、808nm和532nm高透射膜,其相对面镀45°入射808nm和532nm高透射膜;所述激光晶体(LC)位于所述第一、第二平凸聚焦镜的共同焦点处,其工作介质被激发产1064nm波长激光;所述1064nm红外光路依次包括第三平面反射镜(M1)、声光调Q开关(AOM)、所述第一分光片(M2)、所述激光晶体(LC)、所述第二分光片(M3)、二倍频晶体(SHG)、第三分光片(M4)、三倍频晶体(THG)和第四平面反射镜(M5);所述第三平面反射镜(M1)和第四平面反射镜(M5)为1064nm激光谐振腔的端镜,所述第三平面反射镜(M1)反射面镀0°入射1064nm高反射膜;所述第四平面反射镜(M5)反射面镀0°入射1064nm、532nm和355nm全反射膜;所述第一分光片(M2)入射面镀45°入射808nm高透射膜,其相对面镀45°入射1064nm高反射、808nm高透射膜;所述第二分光片(M3)入射面镀45°入射808nm和532nm高透射膜,其相对面镀45°入射1064nm高反射、808nm和532nm高透射膜;所述第三分光片(M4)入射面镀15°入射1064nm和532nm高透射膜,其相对面镀10°入射355nm高反射膜、1064nm和532nm高透射膜;所述第四平面反射镜(M5)反射面镀0°入射1064nm、532nm和355nm高反射膜;所述第一、第二连续泵浦光源产生的泵浦光源,通过所述激光晶体(LC)产生1064nm波长激光,在第三平面反射镜(M1)和第四平面反射镜(M5)之间的激光谐振腔内反复振荡,并通过所述二倍频晶体(SHG),产生532nm波长激光;所述532nm绿光光路依次包括第五平面反射镜(M6)、所述第二分光片(M3)、所述二倍频晶体(SHG)、所述第三分光片(M4)、所述三倍频晶体(THG)和第四平面反射镜(M5);所述第五平面反射镜(M6)反射面镀0°入射532nm高反射膜,所述第二分光片(M3)、所述二倍频晶体(SHG)、所述第三分光片(M4)、所述三倍频晶体(THG)和所述第四平面反射镜(M5)同1064nm红外光路中所述;1064nm波长激光通过所述二倍频晶体(SHG)激发,在所述第五平面反射镜(M6)和所述第四平面反射镜(M5)之间的激光谐振腔内重复振荡,产生532nm波长激光;所述355nm紫外光路包括所述第四平面反射镜(M5)、所述三倍频晶体(THG)、所述第三分光片(M4)、截止反射镜(M9)和布鲁斯特窗口(W3);所述第三分光片(M4)入射面镀10°入射355nm高反射膜、1064nm和532nm高透射膜,其相对面镀15°入射1064nm和532nm高透射膜;所述截止反射镜(M9)45°入射,所述布鲁斯特窗口(W3)56°入射;532nm波长激光通过所述三倍频晶体(THG)的激发,在所述第四平面反射镜(M5)和所述第三分光片(M4)之间的激光谐振腔内反复振荡,产生355nm波长紫外激光。
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