[发明专利]一种规模化制备合金量子点核的方法有效

专利信息
申请号: 201610616515.3 申请日: 2016-07-29
公开(公告)号: CN106244139B 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: 程陆玲;杨一行;曹巍然;钱磊 申请(专利权)人: TCL科技集团股份有限公司
主分类号: C09K11/56 分类号: C09K11/56;C09K11/88
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 李艳丽
地址: 516006 广东省惠州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种规模化制备合金量子点核的方法,包括以下步骤:提供至少一种阳离子前驱体、至少一种阴离子前驱体、非共融溶剂和淬灭剂;将所述非共融溶剂置于容器中,常温排气处理,加热至120‑170℃后进行抽真空处理,然后升温至150‑310℃并恒温维持,将各所述阳离子前驱体、阴离子前驱体分别采用微量注入的方式注入到所述容器中形成反应体系,其中,以所述容器的总体积为V计,各所述阳离子前驱体的注入速率为0.001‑1V/h、各所述阴离子前驱体的注入速率为0.001‑1V/h;待反应完成后,将上述反应体系加入到淬灭剂中,清洗后获得合金量子点核。
搜索关键词: 一种 规模化 制备 合金 量子 方法
【主权项】:
一种规模化制备合金量子点核的方法,包括以下步骤:提供至少一种阳离子前驱体、至少一种阴离子前驱体、非共融溶剂和淬灭剂;将所述非共融溶剂置于容器中,常温排气处理,加热至120‑170℃后进行抽真空处理,然后升温至150‑310℃并恒温维持,将各所述阳离子前驱体、阴离子前驱体分别采用微量注入的方式注入到所述容器中形成反应体系,其中,以所述容器的总体积为V计,各所述阳离子前驱体的注入速率为0.001‑1V/h、各所述阴离子前驱体的注入速率为0.001‑1V/h;待反应完成后,将上述反应体系加入到淬灭剂中,清洗后获得合金量子点核。
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