[发明专利]玻璃基板硬化处理方法在审
| 申请号： | 201610616552.4 | 申请日： | 2016-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN106082616A | 公开（公告）日： | 2016-11-09 |
| 发明（设计）人： | 满小花;徐旻生;张永胜;庄炳河;黄高峰 | 申请（专利权）人： | 爱发科豪威光电薄膜科技（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | C03B32/00 | 分类号： | C03B32/00;C03C23/00 |
| 代理公司： | 深圳市翼智博知识产权事务所(普通合伙) 44320 | 代理人： | 肖伟 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种玻璃基板硬化处理方法，包括以下步骤：在真空环境中加热处理玻璃基板；由离子源设备发射高能量等离子体轰击加热处理后的玻璃基板，促使玻璃基板表层结构重组形成硬化层。在进行加热处理之前，还可先对所述玻璃基板进行清洗。所述加热处理玻璃基板是在真空环境中进行。本发明通过采用高能量等离子体轰击加热处理后的玻璃基板，能很好地促使玻璃基板表层结构重组形成硬化层，可以使玻璃基板的莫氏硬度从5~6提高到7以上；而且，在波长550nm处透过率仍可达91%以上，能很好地满足硬度和透过率的双重要求。本发明方法可广泛应用于手机、可穿戴产品或智能车载等电子产品信息显示终端触摸屏的生产。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃 硬化 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种玻璃基板硬化处理方法，其特征在于，包括：加热处理玻璃基板；由离子源设备发射高能量等离子体轰击加热处理后的玻璃基板，促使玻璃基板表层结构重组形成硬化层。
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