[发明专利]一种X射线光栅相衬成像装置和成像方法有效

专利信息
申请号: 201610618771.6 申请日: 2016-07-29
公开(公告)号: CN106290414B 公开(公告)日: 2019-10-22
发明(设计)人: 刘刚;胡仁芳;昝贵彬;韩华杰;高昆;陆亚林 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: G01N23/04 分类号: G01N23/04;G01N23/083;G01N23/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 乔东峰
地址: 230026 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种X射线相位衬度成像装置和成像方法,装置包括X射线管(11)、源光栅(12)、样品台‑、分束光栅(13)、分析光栅(15)和X射线探测器(16),各部件的中心都在水平方向上共轴。其中,源光栅(12)、分束光栅(13)和分析光栅(15)的衬底面均正对着所述X射线管(11)。本发明调转了三块光栅的放置方向,无需改变现有的校正步骤、采集方法以及信息分离方法,就能将传统方法中吸收光栅周期性结构的吸收部分承担的能量沉积转移一部分到衬底部分,使得衬底受到的辐照剂量、能量沉积和热分布更加均匀,减小相应的热效应带来的光栅振动乃至变形,提高系统的稳定性,延长光栅使用寿命。
搜索关键词: 一种 射线 光栅 成像 装置 方法
【主权项】:
1.一种X射线相位衬度成像装置,包括X射线管(11)、源光栅(12)、样品台、分束光栅(13)、分析光栅(15)和X射线探测器(16),各部件的中心都在水平方向上共轴,其特征在于:所述源光栅(12)、分束光栅(13)和分析光栅(15)的衬底面均正对着所述X射线管(11);所述源光栅(12)、分束光栅(13)和分析光栅(15)中均是吸收光栅。
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