[发明专利]一种光栅及其制备方法、显示装置有效
| 申请号： | 201610619592.4 | 申请日： | 2016-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN106226853B | 公开（公告）日： | 2018-11-09 |
| 发明（设计）人： | 王静;白金超;丁向前;郭会斌 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例提供一种光栅及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够减小光栅的厚度。该光栅包括依次堆叠的第一薄膜层和第二薄膜层。第一薄膜层包括交替设置的第一偏光部和第一非偏光部，第二薄膜层包括第二偏光部，第二偏光部的位置至少与第一偏光部的位置相对应，其中，第一偏光部的吸光轴与第二偏光部的吸光轴垂直，以使得第一偏光部与第二偏光部的重叠区域构成光栅的遮光区，相邻两个遮光区之间具有透光区。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光栅 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种光栅，其特征在于，所述光栅包括依次堆叠的第一薄膜层和第二薄膜层；所述第一薄膜层包括交替设置的第一偏光部和第一非偏光部；所述第二薄膜层包括第二偏光部，所述第二偏光部的位置至少与所述第一偏光部的位置相对应；其中，所述第一偏光部的吸光轴与所述第二偏光部的吸光轴垂直，以使得所述第一偏光部与所述第二偏光部的重叠区域构成所述光栅的遮光区；相邻两个遮光区之间具有透光区。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610619592.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种减干涉光学增亮膜
- 下一篇：一种全息光栅阵列的制作装置
