[发明专利]一种发光二极管的外延片及其制备方法有效
申请号: | 201610620080.X | 申请日: | 2016-07-29 |
公开(公告)号: | CN106129201B | 公开(公告)日: | 2019-08-23 |
发明(设计)人: | 代露;万林;胡加辉 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(浙江)有限公司 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02;H01L33/32;H01L33/00 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 322000 浙江省金华市义*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种发光二极管的外延片及其制备方法,属于光电子制造技术领域。该外延片包括依次层叠的衬底、缓冲层、成核层、未掺杂氮化镓层、N型层、有源层和P型层,成核层包括层叠的多层N型AlxGa1‑xN层,各层N型AlxGa1‑xN层的掺杂浓度不变,多层N型AlxGa1‑xN层的掺杂浓度沿外延片的层叠方向连续变化,通过成核层包括层叠的多层N型AlxGa1‑xN层,且各层N型AlxGa1‑xN层的掺杂浓度不变,多层N型AlxGa1‑xN层的掺杂浓度沿外延片的层叠方向连续变化,有利于电流的扩展,降低了外延片的电阻,进而降低外延片的正向电压,减少LED的能耗和发热量,延长使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 一种 发光二极管 外延 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种发光二极管的外延片,所述外延片包括依次层叠的衬底、缓冲层、成核层、未掺杂氮化镓层、N型层、有源层和P型层,其特征在于,所述成核层包括层叠的多层N型AlxGa1‑xN层,其中,0≤X≤1,同层所述N型AlxGa1‑xN层的掺杂浓度不变,不同的所述N型AlxGa1‑xN层的掺杂浓度沿所述外延片的层叠方向连续变化。
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