[发明专利]一种多晶硅靶材的铸造工艺在审

专利信息
申请号: 201610625642.X 申请日: 2016-08-01
公开(公告)号: CN106245112A 公开(公告)日: 2016-12-21
发明(设计)人: 王峰;姚玉杰;李鹏廷 申请(专利权)人: 大工(青岛)新能源材料技术研究院有限公司
主分类号: C30B28/06 分类号: C30B28/06;C30B29/06
代理公司: 青岛发思特专利商标代理有限公司37212 代理人: 巩同海
地址: 266000 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明属于硅质靶材的制备领域,具体涉及一种多晶硅靶材的铸造工艺。所述工艺包括以下步骤:(1)装入4‑5N的多晶硅料,并加入铁硼合金作为掺杂剂;(2)将装好的硅料投炉后抽真空,加热;(3)熔化阶段;(4)跳步至长晶阶段;(5)退火;(6)降温阶段。通过此工艺可将原料的纯度要求从5N降低到4N,从而大大降低了使用原料的成本;且通过该工艺得到的硅锭,可用部分的出成率能够达到75%左右,并避免了多晶硅靶材锭裂纹的出现等;另外,掺杂剂铁硼合金成本较低,市场普遍存在且分凝效果好,相比于硼铝合金出成率高5%以上。
搜索关键词: 一种 多晶 硅靶材 铸造 工艺
【主权项】:
一种多晶硅靶材的铸造工艺,其特征在于,包括以下步骤:(1)装入4‑5N的多晶硅料,并加入铁硼合金作为掺杂剂;(2)将装好的硅料投炉后抽真空,加热;(3)熔化阶段;(4)跳步至长晶阶段;(5)退火;(6)降温阶段。
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