[发明专利]一种激光退火设备

摘要

本发明提供一种激光退火设备，通过在激光源和掩膜板之间设置透镜，对激光源产生的准分子激光束进行会聚，变更设备光路，激光源和透镜沿掩膜板同步水平移动，利用会聚后的准分子激光束扫描掩膜板，会聚后的准分子激光束经由掩膜板的透光区透射至阵列基板的退火区，实现激光退火。在激光退火过程中，掩膜板始终覆盖在阵列基板上，不会随激光源和透镜而移动，不但能够提高对位精度，而且无需实时追踪基板上的图案，从而能够不以牺牲产能为代价即可满足高PPI基板的精度要求；而且，本发明的激光退火设备用普通的透镜代替微透镜阵列，该透镜可以适用于各个型号的阵列基板，从而降低设备成本投入和时间投入。

主权项

1.一种激光退火设备，包括掩膜板和用于产生准分子激光束的激光源，其特征在于，所述掩膜板覆盖于阵列基板上，所述掩膜板的透光区与阵列基板的退火区相对应；所述激光退火设备还包括用于会聚准分子激光束的透镜，所述透镜位于所述激光源和掩膜板之间，并与所述激光源沿所述掩膜板同步水平移动；还包括第一承载装置，所述第一承载装置包括用于承载所述激光源的第一承载部和用于承载所述透镜的第二承载部，所述第二承载部设置在所述第一承载部的正下方，且所述第一承载部与第二承载部固定连接；所述第一承载部和第二承载部同步匀速移动，所述第一承载部和第二承载部的移动速度为180‑230mm/s。