[发明专利]低剖面覆盖式天线有效
申请号: | 201610626859.2 | 申请日: | 2016-08-03 |
公开(公告)号: | CN106450690B | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
发明(设计)人: | 詹姆斯·B·韦斯特;智媛·L·莫兰 | 申请(专利权)人: | 罗克韦尔柯林斯公司 |
主分类号: | H01Q1/36 | 分类号: | H01Q1/36;H01Q1/50;H01Q21/00;H01Q1/28;H01Q1/32;H01Q1/34 |
代理公司: | 北京纽乐康知识产权代理事务所(普通合伙) 11210 | 代理人: | 田磊 |
地址: | 美国艾奥瓦州*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 低剖面覆盖式天线。天线阵包括柔性微带PCB馈源层连接至柔性微带PCB馈源层的多个刚性辐射单元。所述辐射单元包括可扩展对数周期低剖面辐射单元用以产生单极、端射辐射图样。辐射单元包括印制倒F天线和多臂圆盘单元用于圆偏振。所述天线阵与弯曲表面相适应。所述辐射单元既可以整合在多层柔性或刚挠性PCB中,又可以被构形作为连接至共接地层柔性电路的单个单元。 | ||
搜索关键词: | 剖面 覆盖 天线 | ||
【主权项】:
一种天线,包括:一柔性馈源层,其被构形用以符合一表面;和多个刚性辐射单元,其被连接至所述柔性馈源层,所述多个刚性辐射单元中的每个刚性辐射单元包括:一接地层;一介电基片,其设置在所述接地层上;和一辐射体,其连接至所述接地层和所述柔性馈源层,其中:所述多个刚性辐射单元被组织成一对数周期(LP)阵。
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