[发明专利]用于大型结构物变形或位移参数的自校准式测量装置及方法有效
| 申请号： | 201610628659.0 | 申请日： | 2016-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN106197287B | 公开（公告）日： | 2018-10-02 |
| 发明（设计）人： | 高文武;屈战辉 | 申请（专利权）人： | 西安敏文测控科技有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02;G01B11/16 |
| 代理公司： | 西安文盛专利代理有限公司 61100 | 代理人： | 李中群 |
| 地址： | 710100 陕西省西安市航*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于大型结构物变形或位移参数的自校准式测量装置和方法，包括成像系统和安装在大型结构物测量点上的不少于一只的测量靶标，还包括安装在大型结构物上变形或位移变化可忽略区域的基准靶标，基准靶标和测量靶标在成像系统的敏感元的不同位置上成像，测量点的位移或变形参数根据测量靶标的结果和基准靶标的结果计算得到。本发明而克服了测量系统因环境温度、时效性或成像系统因自身安装基础变形引起的测量误差，提高了测量精度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 大型 结构 变形 位移 参数 校准 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.用于大型结构物变形或位移参数的自校准式测量方法，其特征在于，包括以下步骤：[1]安装：在大型结构物上安装测量靶标和基准靶标，其中测量靶标安装在待测量点位置，基准靶标设置在变形或位移变化可忽略区域；[2]测量：开启成像系统，使得基准靶标和测量靶标在成像系统的敏感元的不同位置上成像；[3]校准：对成像系统进行数据处理，获取基准靶标和测量靶标的位移值；并根据基准靶标的位移值，对测量靶标的位移值进行修正校准，扣除成像系统因自身安装基础位移带来的测量误差，获得测量靶标所在测量点的真实位移值；所述步骤[3]中的校准步骤包括：[3.1]根据测量靶标的位置变化值，并结合测量靶标与成像系统之间的距离、成像系统的光学参数，计算得到测量靶标所在的测量点处的位移值x1；[3.2]根据基准靶标的位置变化值，并结合基准靶标与成像系统之间的距离、成像系统的光学参数，计算得到成像系统的基准位移值x0；[3.3]经校准后测量点的位移x11＝x1‑x0。
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