[发明专利]化学增幅型正型抗蚀剂组合物和图案形成方法

摘要

本发明为化学增幅型正型抗蚀剂组合物和图案形成方法，本发明提供了化学增幅型正型抗蚀剂组合物，其包括(A)在酸作用下适应于变得可溶于碱性水溶液中的聚合物，(B)光致产酸剂，(C)羧酸和(D)苯并三唑化合物和/或咪唑化合物。当将所述抗蚀剂组合物以5‑250μm厚的厚膜涂布至铜基材上并以光刻法加工成图案时，可获得高分辨率且所述图案具有矩形轮廓。

主权项

化学增幅型正型抗蚀剂组合物，其包括(A)在酸作用下适应于变得可溶于碱性水溶液中的聚合物，(B)光致产酸剂，(C)羧酸，和(D)选自(D‑1)苯并三唑化合物和(D‑2)咪唑化合物的至少一种化合物所述苯并三唑化合物(D‑1)具有通式(1)或(3)：其中P为氢、羟基、经取代的或未取代的C1‑C6烷基、经取代的或未取代的苯基、具有磺酸或其衍生物的取代基基团或‑Z‑Y，其中Z为C2‑C12亚烷基、亚环烷基或亚烷基醚基团，其可以被羧基取代，Y为羟基、C1‑C6烷氧基、羧基或其中每个烷基结构部分具有C1‑C6的二烷基氨基，Q为氢、卤素、羟基、C1‑C6烷基、C1‑C6烷氧基或式(2)的有机基团：其中R0为氢或C1‑C12烷基，x为0或1，其中T为氢、羟基、经羟基取代的或未取代的C1‑C6烷基或经羟基取代的或经甲基取代的或未取代的苯基，W为氢、卤素、羟基、C1‑C6烷基或C1‑C6烷氧基，所述咪唑化合物(D‑2)具有通式(I‑1)至(I‑6)的任一个：其中R1为具有极性官能结构部分的直链、支链或环状C2‑C20烷基，所述极性官能结构部分为选自羟基、羰基、酯、醚、硫化物、碳酸酯、氰基和缩醛中的至少一个结构部分；R2、R3和R4各自独立地为氢、直链、支链或环状C1‑C10烷基、C6‑C10芳基或C7‑C10芳烷基；R5、R7、R9和R13各自独立地为直链、支链或环状C1‑C10亚烷基；R6和R8各自独立地为氢或C1‑C15烷基，其可以包含选自羟基、羰基、酯、醚、硫化物、碳酸酯、氰基和缩醛中的至少一个结构部分；R10为C1‑C15烷基，其可以包含选自羟基、羰基、酯、醚、硫化物、碳酸酯、氰基和缩醛中的至少一个结构部分；R11为(n+1)价的、直链、支链或环状C2‑C10烃基；R12各自独立地为氢或C1‑C15烷基，其可以包含选自羟基、羰基、酯、醚、硫化物、碳酸酯、氰基和缩醛中的至少一个结构部分，或两个R12基团可以键合在一起以形成环，和n为2、3、4或5。