[发明专利]量子点膜、其制备方法及具有其的背光模组有效
申请号: | 201610633290.2 | 申请日: | 2016-08-04 |
公开(公告)号: | CN106195780B | 公开(公告)日: | 2019-05-14 |
发明(设计)人: | 康永印;尹侠;杜向鹏;赵飞 | 申请(专利权)人: | 纳晶科技股份有限公司 |
主分类号: | F21S8/00 | 分类号: | F21S8/00;F21V9/32 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 赵囡囡;吴贵明 |
地址: | 310052 浙江省杭州市滨*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供了一种量子点膜、其制备方法及具有其的背光模组。该量子点膜的制备方法包括:步骤S1,提供量子点基膜,量子点基膜的面积为所欲制备的量子点膜面积的n倍,n为正数;步骤S2,在量子点基膜上设置多个相互平行的第一光转换条和多个相互平行的第二光转换条,各第一光转换条分别和各第二光转换条接触设置,且各第一光转换条和各第二光转换条之间具有夹角;步骤S3,将具有第一光转换条和第二光转换条的量子点基膜进行裁切,得到多个量子点膜,各量子点膜的至少一个侧边具有被裁切后的第一光转换条,与第一光转换条相邻的两个侧边具有被裁切后的第二光转换条。上述制备方法降低了量子点膜制备成本。 | ||
搜索关键词: | 量子 制备 方法 具有 背光 模组 | ||
【主权项】:
1.一种量子点膜的制备方法,其特征在于,包括:步骤S1,提供量子点基膜,所述量子点基膜的面积为所欲制备的量子点膜面积的n倍,所述n为正数,n≥2;步骤S2,在所述量子点基膜上设置多个相互平行的第一光转换条(210)和多个相互平行的第二光转换条(220),各所述第一光转换条(210)分别和各所述第二光转换条(220)接触设置,且各所述第一光转换条(210)和各所述第二光转换条(220)之间具有夹角;步骤S3,将具有所述第一光转换条(210)和所述第二光转换条(220)的所述量子点基膜进行裁切,得到多个量子点膜,各所述量子点膜的至少一个侧边具有被裁切后的所述第一光转换条(210),与所述第一光转换条(210)相邻的两个侧边具有被裁切后的所述第二光转换条(220),被裁切后的所述第一光转换条(210)和所述第二光转换条(220)形成各所述量子点膜的光转换封边(200),所述步骤S3的裁切包括:沿裁切线对所述量子点基膜进行第一次裁切得到预备单元,所述裁切线为所述第一光转换条(210)的沿与所述第一光转换条(210)长度的延伸方向平行的中线以及所述第二光转换条(220)的沿与所述第二光转换条(220)长度的延伸方向平行的中线。
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