[发明专利]粉末镀膜装置及方法在审
申请号: | 201610641777.5 | 申请日: | 2016-08-08 |
公开(公告)号: | CN106086819A | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 王禄荣;刘浩伟;周国英 | 申请(专利权)人: | 王禄荣 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京中恒高博知识产权代理有限公司 11249 | 代理人: | 刘洪京 |
地址: | 214000 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种粉末镀膜装置,包括循环连接的四个相同腔室,每个腔室由依次连通的反应区、样品盛放区和传料区构成,反应区设在样品盛放区上方,反应区顶端设有入口,入口下方架设竖直的旋转轴,该旋转轴的轴向上设有粉末流化台,该旋转轴两侧的反应区侧壁设有进气孔和出气孔,出气孔侧壁内设有多孔挡板;样品盛放区上部设有进料口,底部与倾斜设置的传料区的低端连通;传料区内设有螺旋传料杆,高端与下一个腔室的反应区入口连通;传料区最低端设有出料口。本发明中粉末以可控量的方式进入反应气体或清洗气体中;每个腔室中都不会发生完整的反应过程,这样每个腔室都不会被污染,可以缩短80%以上的设备维护时间。 | ||
搜索关键词: | 粉末 镀膜 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种粉末镀膜装置,其特征在于:包括循环连接的四个相同腔室,每个腔室由依次连通的反应区、样品盛放区和传料区构成,反应区设在样品盛放区上方,反应区顶端设有入口,入口下方架设竖直的旋转轴,该旋转轴的轴向上设有粉末流化台,该旋转轴两侧的反应区侧壁设有进气孔和出气孔,出气孔侧壁内设有多孔挡板;样品盛放区上部设有进料口,底部与倾斜设置的传料区的低端连通;传料区内设有螺旋传料杆,高端与下一个腔室的反应区入口连通;传料区最低端设有出料口。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的