[发明专利]一种低折射率光学镀膜材料有效
申请号: | 201610644554.4 | 申请日: | 2016-08-08 |
公开(公告)号: | CN106019428B | 公开(公告)日: | 2019-02-22 |
发明(设计)人: | 秦海波 | 申请(专利权)人: | 北京富兴凯永兴光电技术有限公司 |
主分类号: | G02B1/14 | 分类号: | G02B1/14;G02B1/18 |
代理公司: | 北京市商泰律师事务所 11255 | 代理人: | 毛燕生 |
地址: | 100023 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种低折射率光学镀膜材料,所述光学镀膜材料由二氧化硅和其它添加物二氧化锆组成,其中,二氧化硅50‑99.5wt%,二氧化锆:0.5‑50wt%。 | ||
搜索关键词: | 一种 折射率 光学 镀膜 材料 | ||
【主权项】:
1.一种低折射率光学镀膜材料,其特征在于:所述光学镀膜材料由二氧化硅和二氧化锆两种材料混合组成;所述光学镀膜材料的原料组成为,二氧化硅:50‑99.5wt%,二氧化锆:0.5‑50wt%;所述光学镀膜材料的混合物是二氧化硅和二氧化锆高温熔化后所形成的混合物,熔融温度为1800℃以上;所述光学镀膜材料用于生产手机玻璃面板和触摸屏。
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