[发明专利]一种防污染型高温高压动态现场原位光谱测试用反应器有效

专利信息
申请号: 201610645818.8 申请日: 2016-08-09
公开(公告)号: CN106198390B 公开(公告)日: 2018-10-26
发明(设计)人: 韩一帆;徐晶;张俊;张征湃;尚欢欢 申请(专利权)人: 华东理工大学
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N21/15;G01N21/65
代理公司: 上海顺华专利代理有限责任公司 31203 代理人: 沈履君
地址: 200237 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种防污染型高温高压动态现场原位光谱测试用反应器,其特征为:于反应器盖下表面设置防污系统。防污系统包括上密封槽、密封储槽A、密封储槽B和防污片,防污片闭合后与上密封槽、高透光学窗片形成一密闭空间,通过齿轮组和内传动杆控制防污片的开启与闭合;在非光谱信号采集阶段,通过防污片阻挡液固相物质对光学窗片的污染,在实验的光谱信号采集阶段移开防污片,保证分析光束透过纯净的光学窗片且不发生光路偏移,减少光能量衰减,增强反馈信号强度。本发明规避了同类微型反应器在三相及多相反应中,物质污染光学窗片、影响光谱实验信号的问题。保证了在苛刻条件下以高时空分辨度进行高温高压现场原位光谱测试的要求。
搜索关键词: 一种 污染 高温 高压 动态 现场 原位 光谱 测试 反应器
【主权项】:
1.一种防污染型高温高压动态现场原位光谱测试用反应器,包括反应器主体及反应器主体上的反应器盖,反应器盖的中心处开有光孔,光孔上配有高透光学窗片,反应器主体具有样品池和原料输送管道,其特征在于,所述的反应器还包括一个设置于反应器盖下表面的防污系统;所述的防污系统包括:位于高透光学窗片下方的防污片上密封槽,其两侧分别设置有防污片密封储槽A和防污片密封储槽B,两片半圆形的防污片安装于防污片上密封槽下表面,闭合后与防污片上密封槽、高透光学窗片形成一密闭空间,防污片密封储槽A和防污片密封储槽B的槽口与防污片位置相对应;一个防污片外传动杆穿过反应器盖,其下端通过由两个相啮合的齿轮组成的第一齿轮组与内传动杆A的前端相连接,内传动杆A的末端通过由三个相啮合的齿轮组成的第二齿轮组连接内传动杆B的前端及内传动杆C的前端,内传动杆C的末端通过由两个相啮合的齿轮组成的第三齿轮组连接内传动杆D的前端,内传动杆B的末端和内传动杆D的末端各有一个转动齿轮,每个转动齿轮卡住一条履带实现履带的移动;其中,内传动杆A伸出防污片密封储槽A外,内传动杆C以水平状态依次贯穿防污片密封储槽A、防污片上储槽和防污片密封储槽B,其位置高于防污片,内传动杆B及内传动杆D分别收纳于防污片密封储槽A及防污片密封储槽B槽内;每条履带的一端分别固定于每个半圆形的防污片下表面,其中一条履带的另一端固定于防污片密封储槽A槽内的上部,另一条履带的另一端固定于防污片密封储槽B槽内的上部。
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