[发明专利]一种基于双导轨的多光栅刻刀式光栅刻划刀架系统有效
| 申请号： | 201610647212.8 | 申请日： | 2016-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN106019442B | 公开（公告）日： | 2018-12-07 |
| 发明（设计）人： | 唐玉国;李晓天;马振予;于海利;齐向东;吉日嘎兰图;于宏柱;糜小涛;张善文;巴音贺希格 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本申请提供一种基于双导轨的多光栅刻刀式光栅刻划刀架系统，包括主机座、工作台、平行设置的第一导轨和第二导轨、第一滑套、第二滑套、连接第一滑套和第二滑套的滑套连接架、测量反射镜、可拆卸地安装在所述滑套连接架上的n个刻划刀架装置，n为大于等于2的正整数。本申请仅采用两个导轨即可实现多个光栅刻划刀架同时对整个光栅基底进行刻划的目的，相对于现有技术中采用多个刻划系统各配置一个光栅刻刀来实现大面积光栅刻划，节省了导轨的使用量，使得资源利用率更高。另外，多个刻划刀架装置与滑套连接架之间为可拆卸连接，当需要调节刻划刀架装置时，仅需要调节滑套连接架上的刻划刀架装置的个数以及位置即可，其他装置无需进行调节。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 导轨 光栅 刻刀 刻划 刀架 系统 | ||
【主权项】：
1.一种基于双导轨的多光栅刻刀式光栅刻划刀架系统，其特征在于，包括：主机座；设置在所述主机座表面的工作台，所述工作台背离所述主机座的表面用于放置待制作光栅的光栅基底；设置在所述主机座表面的第一导轨和第二导轨，所述第一导轨和所述第二导轨相互平行设置，且位于所述工作台的两侧；沿所述第一导轨运动的第一滑套；沿所述第二导轨运动的第二滑套；连接所述第一滑套和所述第二滑套的滑套连接架，所述滑套连接架与所述工作台背离所述主机座的表面平行；设置在所述工作台上的测量反射镜，所述测量反射镜位于所述工作台的一侧，且与所述第一导轨平行设置；可拆卸地安装在所述滑套连接架上的n个刻划刀架装置，每个所述刻划刀架装置包括激光干涉计，n为大于等于2的正整数；其中，n个刻划刀架装置中，靠近所述测量反射镜的刻划刀架装置的激光干涉计与所述工作台之间的距离，大于远离所述测量反射镜的刻划刀架装置的激光干涉计与所述工作台之间的距离。
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