[发明专利]一种高世代平板铜钛膜酸性蚀刻液有效
| 申请号： | 201610655100.7 | 申请日： | 2016-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN106086891B | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | 殷福华;邵勇;陈林;栾成;朱龙;顾玲燕;赵文虎;李英 | 申请（专利权）人： | 江阴江化微电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26 |
| 代理公司： | 江阴义海知识产权代理事务所(普通合伙) 32247 | 代理人： | 杜兴 |
| 地址： | 214400 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高世代平板铜钛膜酸性蚀刻液，其组分按质量百分比计包括：1～10%的过氧化氢、0.1～8%的双氧水稳定剂、1～10%的HNO3、0.1～10%的金属缓蚀剂、0.1～3%的氟离子源、0.1～3%的季铵氢氧化物和余量的水；金属缓蚀剂包含有机杂环缓蚀剂和组分A缓蚀剂，组分A缓蚀剂为选自环亚胺、炔醇中的至少一种。本发明高世代平板铜钛膜酸性蚀刻液采用包含有机杂环缓蚀剂和选自环亚胺、炔醇中至少一种的金属缓蚀剂，可对铜钛双层膜进行一步湿法蚀刻，蚀刻速率适中，所得铜布线端部的蚀刻面与下层的基板形成的角度在35～50°之间。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 世代 平板 铜钛膜 酸性 蚀刻 | ||
【主权项】：
1.一种高世代平板铜钛膜酸性蚀刻液，其特征在于，其组分按质量百分比计包括：1～10%的过氧化氢、0.1～8%的双氧水稳定剂、1～10%的HNO3、0.1～10%的金属缓蚀剂、0.1～3%的氟离子源、0.1～3%的季铵氢氧化物和余量的水；金属缓蚀剂包含有机杂环缓蚀剂和组分A缓蚀剂，组分A缓蚀剂为选自环亚胺、炔醇中的至少一种，金属缓蚀剂中有机杂环缓蚀剂的质量百分比为90～98%。
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