[发明专利]金属化薄膜电容的制造工艺在审
申请号: | 201610656686.9 | 申请日: | 2016-08-11 |
公开(公告)号: | CN106252075A | 公开(公告)日: | 2016-12-21 |
发明(设计)人: | 李彦 | 申请(专利权)人: | 苏州柯创电子材料有限公司 |
主分类号: | H01G4/33 | 分类号: | H01G4/33;H01G4/002;H01G4/224 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙)11369 | 代理人: | 韩飞 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种金属化薄膜电容的制造工艺,包括以下步骤:S1,薄膜电容金属化:聚丙烯薄膜为基膜,真空蒸镀方式将锌铝附着在聚丙烯薄膜表面形成电极;S2,包裹:在金属层和聚丙烯薄膜中间的留边位置,通过真空热压的方式,包裹一层绝缘材料形成绝缘层;S3,卷绕、定型;S4,喷金:在金属化薄膜电容的两个端面喷镀锌锡合金;S5,真空热处理:喷金后的金属化薄膜电容进行真空热处理后采用风冷的方式冷却;S6,赋能;S7,封装;喷金枪嘴与芯子端面间的距离为150cm‑155cm,压力为0.6Mpa‑0.7Mpa;金属合金层的厚度为0.25mm‑0.30mm。本发明具有电能损耗低、耐热性高、使用寿命长的优点。 | ||
搜索关键词: | 金属化 薄膜 电容 制造 工艺 | ||
【主权项】:
一种金属化薄膜电容的制造工艺,其特征在于,包括以下步骤:S1,薄膜电容金属化:采用聚丙烯薄膜为基膜,通过真空蒸镀方式将锌铝附着在聚丙烯薄膜表面形成电极,并且,锌铝附着在聚丙烯薄膜两侧的两边形成金属层;S2,包裹:在金属层和聚丙烯薄膜中间的留边位置,通过真空热压的方式,包裹一层绝缘材料形成绝缘层;S3,卷绕、定型:通过无感式对聚丙烯薄膜层以及金属层电极进行绕卷形成芯子,芯子之间串联;S4,喷金:在金属化薄膜电容的两个端面喷镀合金形成金属合金层;所述合金是锌锡合金;S5,真空热处理:喷金后的金属化薄膜电容进行真空热处理,真空热处理后采用风冷的方式冷却;S6,赋能,将喷金、真空热处理处理后的芯子进行赋能处理;S7,封装,将芯子单向引出,以绝缘材料进行热压封装,并以阻燃防紫外绝缘材料灌封;其中,步骤S4中喷金时,喷金枪嘴与芯子端面间的距离为150cm‑155cm,压力为0.6Mpa‑0.7Mpa;所述金属合金层的厚度为0.25mm‑0.30mm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州柯创电子材料有限公司,未经苏州柯创电子材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610656686.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。